Equipo de deposición química en fase vapor asistida por plasma (PECVD) capaz de depositar recubrimientos con espesores nanométricos de materiales semiconductores (silicio amorfo y cristalino), nitruros, óxidos, etc?

Tiene un diseño tipo cluster compuesto por una cámara de transferencia de muestras rodeada por 3 cámaras de deposición de recubrimientos y una cámara de carga/descarga de muestras.

Cada cámara de deposición tiene una fuente de radiofrecuencia independiente (frecuencia variable entre 10 y 100 MHz) para la generación del plasma.