PVD Sputter: ORION 8HV AJA Internationnal
Se compone de una cámara de proceso (figura 1) en la cual se puede recubrir, mediante uso de uno de los tres cátodos, muestras planas de un diámetro máximo de 15 cm.

VHF-PECVD- Cluster: Elettrorava
Equipo de deposición química en fase vapor asistida por plasma (PECVD) capaz de depositar recubrimientos con espesores nanométricos de materiales semiconductores (silicio amorfo y cristalino), nitruros, óxidos, etc?

Mesa 4 puntas: LucasLab
Está asociado a una fuente Keithley 2400.

Mesa curvas I-V: Signatone
Asociado a la fuente Keithley 4200 permite caracterizar materiales altamente resistivos.

Perfilometro mecánico: XP1 Ambios
Permite, realizando un escalón, la determinación del espesor de todo tipo de recubrimiento (desde 10 nm hasta 2 micras).

Espectrofotómetro: 2048 Avantes
Mediante fibras ópticas colimadas, este espectrofotómetro permite realizar ensayos de transmitancia y reflectancia en muestras sólidas.